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(六)本底真空

2018-12-05

磁控溅射镀膜设备升级换代的新思路、新设备和新工艺

再谈本底真空与放气率

储继国  龚建华 

目前,传统产业的升级换代已经成为国家的战略决策,各级政府已出台,或者即将出台各种资助政策。在此大环境下,本网站将陆续推出一系列真空应用设备升级换代的方案供用户参考。本文着重探讨磁控溅射和阴极电弧镀膜设备升级换代的新路子和新对策。

对真空镀膜设备而言,本底真空和放气率是关乎品质的两个最重要的概念。本底真空比较直观,容易测量,加上历史的原因,用户已经习惯于将它与真空质量等同了。其实,本底真空反映的是表象,真空室的放气率才是真空质量的本质。在很多场合,本底真空会误导用户,导致抽气工艺使用不当,降低产品质量等一系列问题。

 


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本底真空.doc



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